한국진공학회지 (Journal of the Korean Vacuum Society)
- 제2권2호
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- Pages.255-260
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- 1993
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- 1225-8822(pISSN)
UHV-LCVD 장치를 이용한 박막제작에 관한 연구 (I) - 장치 제작을 중심으로 -
The Study on Thin Film Fabrication using UHV-LCVD System (I)
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최원국
(연세대학교 이과대학 물리학과) ;
- 윤덕주 (연세대학교 이과대학 물리학과) ;
- 공병인 (연세대학교 이과대학 물리학과) ;
- 김창현 (연세대학교 이과대학 물리학과) ;
- 황정남 (연세대학교 이과대학 물리학과) ;
- 정광호 (연세대학교 이과대학 물리학과)
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Choi, Won-Kook
(Department of Physics, Yonsei University) ;
- Yun, Dug-Ju (Department of Physics, Yonsei University) ;
- Gong, Byung-In (Department of Physics, Yonsei University) ;
- Kim, Chang-Hyun (Department of Physics, Yonsei University) ;
- Whang, Chung-Nam (Department of Physics, Yonsei University) ;
- Jeong, Kwang-Ho (Department of Physics, Yonsei University)
- 발행 : 1993.06.01
초록
UHV-LCVD system was constructed for high quality silicon nitride thin film fabrication. This system consisted of a reaction chamber, an introduction chamber with sample load lock entry, a carbinet for gas manipulation controlling gas flow, a
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