Si(100)와 Si(111) 표면의 Ge 에피 성장 연구

Epitaxial Growth of Ge on Si(100) and Si(111) Surfaces

Si(100)와 Si(111) 표면에 에피 성장시킨 Ge의 기하학적, 전기적 구조가 scanning tunneling microscope로 연구되었다. Ge 원자는 scanning tunneling spectroscopy와 bias 전압을 달리한 STM 상에서 Si 원자와 구별되었다. 이것을 이용하여 Ge의 성장 형태를 연구하였다. (2${\times}$1) 재배열 구조를 가진 (100) 표면에서 Ge 성장층은 720K에서 B형의 step edge로부터 주로 성장하였다. (111) 표면에서도 주로 step edge에서 성장하였으며, Ge의 양과 annealing 온도에 따라 (5${\times}$5)와 (7${\times}$7)구조가 보였다.

The geometrical and electronic structure of epitaxially grown Ge on Si(100) and Si(111) surfaces has been studied by scanning tunneling microscopy. Since Ge atoms could be distinguished from Si atoms by scanning tunneling spectroscopy and voltage dependent STM images, the growth mode of the added layer could be studied. On the (100) surface with a (2${\times}$1) reconstruction, Ge overlayer grow preferentially on the B type step edges at 720K. On the (111) surface, Ge overlayer also grow on the step edges with (7${\times}$7) and (5${\times}$5) structure depending on their coverage and annealing temperature.