The Effects of $Mg^{2+}$ on the Micelle Formation of Nonionic Surfactants

비이온성 계면활성제의 미셀 형성에 미치는 $Mg^{2+}$의 영향

  • Kwon, Oh-Yun (Department of Chemistry, Gyongsang National University) ;
  • Kim, Jung-Sung (Department of Chemistry, Gyongsang National University) ;
  • Paek, U-Hyon (Department of Chemical Education, Taegu University)
  • 권오윤 (경상대학교 자연과학대학 화학과) ;
  • 김정성 (경상대학교 자연과학대학 화학과) ;
  • 백우현 (대구대학교 사범대학 화학교육과)
  • Published : 1993.09.20


In the presence of $Mg^{2+}$, the interaction of nonionic surfactants, $nonylphenol-(ethylene oxide)_n$[NP-nEO; n = 12, 40, 100] with iodine in aqueous solution were investigated by UV-visible spectrophotometer. CMC (critical micelle concentration) was decreased with increasing $Mg^{2+}$ concentration, and those effects depend upon EO (ethylene oxide) numbers. Above CMC, the intensity of interaction peaks by the addition of $Mg^{2+}$ increased and then decreased. The increase in the intensity of the interaction peaks were attributed to the compactness of micelle in the presence of $Mg^{2+}$. These phenomena may be explained by the fact that the linear ethylene oxide chains, to be free configuration in aqueous solution, could form a psuedo-crown ether structures capable of forming complex with $Mg^{2+}$.

$Mg^{2+}$ 존재하에서 비이온성 계면활성제 $nonylphenol-(ethylene oxide)_n$[NP-nEO; n = 12, 40, 100]와 요오드간의 상호작용을 UV-visible spectrophotometer를 이용하여 수용액 중에서 조사하였다. CMC (Critical micelle concentration)는 $Mg^{2+}$ 농도 증가에 따라 감소하였으며, 그 감소폭은 EO(ethylene oxide) 수에 크게 의존하였다. CMC 이상에서 $Mg^{2+}$ 첨가에 따른 상호작용 피크와 강도는 증가하다가 감소하는 변곡점을 보였다. 상호작용 피크의 강도 증가는 $Mg^{2+}$ 존재하에서 미셀구조가 더욱 조밀해진데 따른 요오드와의 전자주게-받게 겹침증가로 볼 수 있다. 이러한 현상들은 비이온성 계면활성제 미셀표면에 노출된 EO 사슬이 유사크라운에테르 구조를 형성하여 $Mg^{2+}$ 의 착물을 형성할 수 있는 가능성을 보여준다.



  1. J. Phys. Chem. v.63 S. Ross;J. Oliver
  2. J. Phys. Chem. v.63 P. Becker
  3. J. Colloid and Surface v.40 J. H. Chang;M. Ohno;K. Esumi;K. Meguro
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  5. J. Colloid. Interface. Sci. v.50 K. Deguchi;K. Meguro
  6. Surfactant Science and Technology D. Myers
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  8. J. Korean Chem. Soc. v.37 J. S. Park;O. Y. Kwon;U. H. Paek
  9. J. Am. Oil Chemists Soc. v.62 M. F. Cox;N. F. Borys;T. P. Matson