Journal of the Korean Vacuum Society (한국진공학회지)
- Volume 2 Issue 3
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- Pages.339-345
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- 1993
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- 1225-8822(pISSN)
The Electronic Properties and the Interface Stoichiometries of Ge-GaAs and AlAs-GaAs
Ge-GaAs 계면과 AlAs-GaAs 계면의 전자구조와 화학적 특성
Abstract
계면의 원자구조와 전자특성간의 상관성을 연구하기 위하여 GaAs-Ge(AlAs) 이종접합에서 전자의 국소상태밀도(LDOS)를 계산하였다. 본 연구에서는 tight-binding recursion 방법을 기초로 하여 계면의 국소상태밀도로부터 band-offsets, 계면형성에너지, 계면결합의 bond order 등을 연구하는 보다 편리한 방법을 제시하였다.
Keywords