Journal of the Korean Vacuum Society (한국진공학회지)
- Volume 2 Issue 1
- /
- Pages.92-98
- /
- 1993
- /
- 1225-8822(pISSN)
Analysis of Al Film Exposed to Nitrogen ECR Plasma by Spectroscopic Ellipsometry
질소 ECR 플라즈마에 노출된 Al 박막의 분광타원해석
Abstract
Si 기판 위에 증착된 Al 박막을 질소 ECR 플라즈마에 노출시켜 시료를 제작하고 분광타원해석법으로 분석한 결과 Al박막에 질화층이 형성되었음을 확인하였다. 사용한 질소 ECR 플라즈마의 전자온도와 전자밀도는 챔버내의 위치에 따라 각각 10~20eV, 0.9~1.2
Keywords