한국광학회지 (Korean Journal of Optics and Photonics)
- 제4권3호
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- Pages.252-259
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- 1993
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- 1225-6285(pISSN)
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- 2287-321X(eISSN)
모든 3차 수차를 제거하여 얻은 극자외선 Lithography용 4-반사경 Holosymmetric System(배율=1)
Holosymmetric 4-Mirror Optical System(Unit Maginification) for Deep Ultraviolet Lithography Obtained from the Exact Solution of All Zero Third Order Aberrations
초록
극자외선 과장을 사용하는 micro-lithography를 위해 등배율을 갖는 4-반사경 holosymmetric system을 설계하였다. Holosymmetric system에서는 모든 차수의 코마와 왜곡수차가 영이 된다. 이 원리를 4-구명경계에 적용하여 등배율을 갖고 5개의 3차 수차가 모두 제거된 4-구면 반사경 holosymmetric system에 대해 유일한 해를 완전히 해석적인 표현으로 구하였다. 이 4-구면경계에 남아있는 고차 수차들을 보정하기 위해 holosymmetric 성질을 유지하면서 비구면을 채용하였고 그결과 개구수 0.33과 image field diameter 7.6mm 이내에서 극자외선 파장
A holosymmetric four-mirror system with unit magnification is designed for use in the micro-lithography using a deep ultraviolet wavelength of
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