Korean Journal of Materials Research (한국재료학회지)
- Volume 2 Issue 5
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- Pages.375-382
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- 1992
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- 1225-0562(pISSN)
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- 2287-7258(eISSN)
Behavior of Implanted Dopants and Formation of Molybdenum Siliclde by Composite Sputtering
Composite target으로 증착된 Mo-silicide의 형성 및 불순물의 거동
- Cho, Hyun-Choon (Dept.Materials Eng., Hanyang University Korea Institute of Industry and Technoogy Information ) ;
- Paek, Su-Hyon (Dept.Materials Eng., Hanyang University Korea Institute of Industry and Technoogy Information ) ;
- Choi, Jin-Seog (Dept.Materials Eng., Hanyang University Korea Institute of Industry and Technoogy Information ) ;
- Hwang, Yu-Sang (Dept.Materials Eng., Hanyang University Korea Institute of Industry and Technoogy Information ) ;
- Kim, Ho-Suk (Dept.Materials Eng., Hanyang University Korea Institute of Industry and Technoogy Information ) ;
- Kim, Dong-Won (Dept.Materials Eng., Hanyang University Samsung Semicindyctor R & D center) ;
- Shim, Tae-Earn (Dept.Materials Eng., Hanyang University Samsung Semicindyctor R & D center) ;
- Jung, Jae-Kyoung (Dept.Materials Eng., Hanyang University Samsung Semicindyctor R & D center) ;
- Lee, Jong-Gil (Dept.Materials Eng., Hanyang University Samsung Semicindyctor R & D center)
- 조현춘 (한양대학교 재료공학과 산업기술 정보원) ;
- 백수현 (한양대학교 한양대학교 재료공학과 산업기술 정보원재료공학과) ;
- 최진석 (한양대학교 재료공학과 산업기술 정보원) ;
- 황유상 (한양대학교 재료공학과 산업기술 정보원) ;
- 김호석 (한양대학교 재료공학과 산업기술 정보원) ;
- 김동원 (한양대학교 재료공학과 삼성 반도체 연구소) ;
- 심태언 (한양대학교 재료공학과 삼성 반도체 연구소) ;
- 정재경 (한양대학교 재료공학과 삼성 반도체 연구소) ;
- 이종길 (한양대학교 재료공학과 삼성 반도체 연구소)
- Published : 1992.10.01
Abstract
Molybdenum silicide films have been prepared by sputtering from a single composite MoS
Composite target(MoS
Keywords