최근의 X-ray 리소그래피 기술개발 현황

반도체기술의 발전에 따라 보다 정교한 리소그래피 기술이 요구되고 있으며, x-ray 리소그래피 기술이 다음 세대 리소그래피 기술로 활발히 연구되고 있다. 특히 최근 리소그래피 전용 compact synchrotron 등 관련분야 기술발전에 힘입어 x-ray 리소그래피는 막대한 초기투자에도 불구하고, 전체적으로는 경쟁력을 확보하는 수준에 이르렀으며, 실용화 가능성이 한층 높아졌다. 그러나 아직도 마스크 및 resist 등 해결하여야 할 문제가 많이 남아 있다. 본 고에서는 주로 '80년대 후반에 이루어진 x-ray 리소그래피 기술의 연구개발 현황을 정리하였다. 특히 미국, 일본, 유럽에서의 개괄적인 연구개발 현황과, 고출력 x-ray 광원으로서 실용화에 성큼 다가선 compact synchrotron의 개발현황, x-ray 리소그래피 기술의 핵심중의 하나인 x-ray 마스크 기술개발 현황 등을 중심으로 기술하였다.