E2M - 전기 전자와 첨단 소재 (Electrical & Electronic Materials)
- 제3권4호
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- Pages.263-270
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- 1990
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- 2982-6268(pISSN)
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- 2982-6306(eISSN)
Polycide구조로 저압화학증착된 $WSi_x$ 박막의 열처리에 따른 거동
Effects of annealing on the properties of $WSi_x$ films in ploycide structure formed by LPCVD method
초록
WSi
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