Electrical & Electronic Materials (E2M - 전기 전자와 첨단 소재)
- Volume 3 Issue 3
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- Pages.242-252
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- 1990
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- 2982-6268(pISSN)
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- 2982-6306(eISSN)
Dielectric Breakdown in mos structures of $Al_{2}$ $O_{3}$ on Si deposited by gaivb technique
GAIVB 법에 의해 형성된 $Al_{2}$ $O_{3}$ /Si MOS 구조에서의 항복현상에 관한 고찰
Abstract
본 논문에서는
Keywords