ETRI Journal
- Volume 10 Issue 4
- /
- Pages.60-68
- /
- 1988
- /
- 1225-6463(pISSN)
- /
- 2233-7326(eISSN)
Sputtering 공정 원격 감시제어 시스팀 설계
Abstract
반도체 제조분야에서는 소자의 고집적화와 특수용도 IC의 수요증대, 제조기술의 급속한 발전과 제조업체간 경쟁심화 등으로 복잡한 제조공정의 합리적인 관리와 고가의 공정장비 이용률 증대, 수율 및 생산성 향상을 위하여 제조공정 자동화가 활발하게 추진되고 있다. 본고는 반도체공정 자동화용 통신규격인 SECS 프로토콜을 이용하여 단위공정 장비를 상위 제어 시스팀에서 원격 감시제어하기 위한 시스팀 설계 방법에 관하여 기술한다.
Keywords