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본고에서는 SI Ga As의 제조방법 및 전도매체들의 깊은 에너지위치(deep level)에 의한 상쇄현상(compensation)을 간략히 설명한 후 넓은 자장영역 (B=0-13T)에서의 Hall 효과 및 magnetoresistance (MR)에 의한 전기적 특성 연구방법을 설명하고, 전도매체의 재결합 현상을 연구할 수 있는 일반화 PME효과 (FA-PME)에 대해 기술한 후 SI Ga As 기판의 응용에 대해 간략히 기술하였다.