3價크롬염에 의한 크롬鍍金

3가크롬 鍍金法은 6가크롬 鍍金法의 諸 欠点을 克服할 수 있다는 事실이 알려져 外國에서는 오래 前 부터 工業的 실用化를 위한 硏究가 活潑하게 行하여 졌고, 이중 최근에 發表된 Alecra 3 process는 電着諸特性이 뛰어난 方法으로 裝飾크롬 鍍金 分野에 利用되고 있다고 한다. 本 硏究는 Alecra 3 process의 浴 組成中 개미산칼륨으로, 염화칼륨을 염화나트륨으로 大替한 浴의 電着諸特性을 調査하고 最適 염化크롬의 濃度와 錯化比를 함께 調査하여 다음과 간은 結果를 얻었다. (1) 外觀, 被覆性,均一電着性 및 平均 電析 速度 등은 염화크롬 濃度가 0.4 mol일때 가장 良好하였다. (2) 개미산나트륨 대 염화크롬의 mol比는 염화크롬이 0.4 mol일때 2~3이 比較的 良好한 電着諸特性을 보여 주었다. (3) 개미산나트륨 및 염화나트륨 含有한 鍍金浴의 電着諸特性은 Alecra 3 Process의 特性과 비슷하였다.

The trivalent choromium plating process have been studied by serveral group of orkers in the recent years. In the plating process, Alecra 3 process is the most familiar one. Potassium formate and potassium chloride of the bath compositions in the above process, are exchanged for sodium formate and sodium chloride, and then they have been examined characteristics of the electrodeposition using above bath solution and a few optimum conditions. The results are as follows, (1) The characteristics of the electrodeposition ; that is, throwing power, covering power, appearance, and deposition rate are most satisfied when concentration of $CrCl_3{\cdot}6H_2O$ is 0.4 mol/l, and mol ratio of HCOONa to Chromium(III); HCOONa/$Cr^{3+}$, is 2 to 3. (2) Throwing power, covering power, color and deposit rate show a similiar tendency to Alecra 3 process.