Investigation of Trap-Assisted-Tunneling Mechanism in L-Shaped Tunneling Field-Effect-Transistor at Low Bias

L형 터널 트랜지스터의 트랩-보조-터널링 현상 조사

L-shaped tunneling field-effect-transistor (LTFET) is considered a superior device over conventional TFETs. However, experimentally demonstrated LTFET demonstrated poor subthreshold characteristics which was attributed to trap-assisted-tunneling (TAT) caused by presence of trap states. In this paper, TAT mechanism in the experimentally demonstrated LTFET is investigated with the help of band diagram and TAT recombination rate (GTAT).

L형 터널링 전계 효과 트랜지스터 (LTFET)는 종래의 터널링 전계 효과 트랜지스터 (TFET)보다 우수한 소자로 고려된다. 그러나, 실험적으로 입증 된 LTFET은 트랩 상태의 존재로 인한 트랩-보조-터널링 (Trap-Assisted-Tunneling; TAT)에 기인한 열악한 임계 이하 기울기(SS) 특성을 나타내었다. 본 논문에서는 실험적으로 시연 된 LTFET의 저전압 바이어스에 TAT 메커니즘을 밴드 다이어그램과 TAT 재조합률 (GTAT)을 사용하여 조사한다.