고경도 투명 박막 구현을 위한 플라즈마 코팅 기술 개발 연구

Study of Plasma Coating Technology to High Hardness and Transmittance Thin Film

  • 변은연 (재료연구소(KIMS) 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) ;
  • 신민호 (재료연구소(KIMS) 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실) ;
  • 김도근 (재료연구소(KIMS) 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실)
  • 발행 : 2015.11.26

초록

선형 이온빔 적용 플라즈마 표면처리 기술 및 코팅 공정을 통해서 고경도 투명 박막 형성 연구를 수행하였다. 플라즈마 전처리를 통해서 박막과 기판 사이의 밀착력을 향상시키고, advanced linear PECVD와 advaced plasma source를 적용하여 SiOxNy계의 박막을 형성하였다. 그 결과 투과도 92 % 이상, 표면 경도 6.3~6.9 GPa 이상의 고경도 투명 박막을 개발하였다. 본 연구 공정을 바탕으로 고경도의 투명 보호 필름 및 투명 디스플레이에 응용이 가능할 것으로 기대된다.

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