Analysis of z-axis direction of the ion saturation current to the pressure of the process gas in the ICP system

ICP system에서 공정가스와 압력에 따른 z축 방향의 이온포화 전류밀도 변화 분석

  • 김동훈 (군산대학교 플라즈마융합공학과) ;
  • 주정훈 (군산대학교 신소재공학과) ;
  • 김성봉 (국가핵융합연구소)
  • Published : 2015.11.26

Abstract

플라즈마 진단법 중 내부에 삽입하여 측정하는 단일 랭뮤어 탐침법은 플라즈마 특성을 정확하게 측정할 수 있다. 탐침에 (-)극을 걸어서 들어오는 전류를 통해서 이온포화 전류밀도를 측정할 수 있다. 본 연구에서는 유도결합플라즈마에 흐르는 가스와 압력에 따라서 변화를 확인하였다. $H_2$, Ar, $CF_4$ gas로 10 mTorr, 70 mTorr, $CF_4$ 주입위치의 조건으로 플라즈마 밀도를 구하였다.

Keywords