Atmospheric Pressure Plasma Surface Treatment on the Polymer Stamp for Selective Transfer Process

선택적 전사를 위한 폴리머 스탬프의 대기압 플라즈마 표면처리

  • 김광섭 (과학기술연합대학원대학교, 한국기계연구원 캠퍼스, 나노메카트로닉스학과) ;
  • 윤민아 (과학기술연합대학원대학교, 한국기계연구원 캠퍼스, 나노메카트로닉스학과) ;
  • 김찬 (과학기술연합대학원대학교, 한국기계연구원 캠퍼스, 나노메카트로닉스학과) ;
  • 허민 (한국기계연구원, 극한기계본부, 플라즈마 연구실) ;
  • 강우석 (과학기술연합대학원대학교, 한국기계연구원 캠퍼스, 나노메카트로닉스학과) ;
  • 김재현 (과학기술연합대학원대학교, 한국기계연구원 캠퍼스, 나노메카트로닉스학과)
  • Published : 2015.11.26

Abstract

최근 고성능이며 유연하고 투명한 전자 기기의 제작에 대한 관심이 높아지고 있으며 이에 대한 연구가 많이 수행되고 있다. 유연 전자제품을 제작하기 위해서는 고성능의 전자소자를 스탬프를 이용해 모재에서 유연한 기판으로 옮겨 붙이는 전사공정이 필요하다. 성공적인 전사공정을 수행하기 위해 스탬프 표면의 점착력을 제어하는 것이 중요하며, 이를 위해 다양한 표면 패터닝 및 표면처리 방법이 연구되고 있다. 대기압 플라즈마 표면처리는 공정 과정이 단순하여 대면적 연속적 전사 장비에 적용하기에 적합한 표면처리 공정으로, 본 연구에서는 대기압 플라즈마 표면 처리된 스탬프의 점착특성을 조사하고, 표면 처리된 스탬프를 이용하여 전자소자의 전사여부를 확인하는 실험을 수행하였다. 플라즈마 처리되지 않은 스탬프 표면은 높은 접착력을 가지며, 이를 이용하여 전자소자를 모재에서 떼어낼 수 있었다. 반면에 스탬프에 대기압 플라즈마 표면처리를 하면 실리카 재질의 경화층이 형성되며 이 층에 의해 점착력이 감소하여 전자소자를 모재에서 떼어낼 수 없었다. 따라서 스탬프에 대기압 플라즈마 표면처리를 함으로써 스탬프와 전자소자 사이의 점착력을 변화시킬 수 있으며, 이를 이용하면 선택적 전사가 가능함을 확인하였다.

Keywords