Semi-Additive Process용 초박형 무전해 구리 피막의 결정구조가 에칭속도에 미치는 영향

Effects of Crystal Structure in Electroless Cu film for Semi-Additive Process on Chemical Etching Rate

  • 이창면 (한국생산기술연구원 표면처리그룹) ;
  • 허진영 (한국생산기술연구원 표면처리그룹) ;
  • 이홍기 (한국생산기술연구원 표면처리그룹)
  • 발행 : 2015.05.07

초록

SAP 씨앗층용 구리필름에 대한 결정구조와 에칭속도의 상관관계를 알아보았다. 그 결과, 저지수 면보다는 고지수면이 우선적으로 성장되어 있는 구리피막이 높은 에칭속도를 나타내었다. 이와 같은 우선결정방위와 에칭속도의 관계를 결정구조적인 관점에서 해석하였다.

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