Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2014.11a
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- Pages.248-249
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- 2014
Effects of Sn doping on GZO:Sn thin film transistor
Sn 도핑 농도에 따른 GZO:Sn TFT의 전기적 특성
- Yang, Ji-Ung ;
- Sin, Jae-Heon ;
- Kim, Gyeong-Hyeon ;
- Park, Rae-Man ;
- Song, Chang-U ;
- Hong, Chan-Hwa ;
- Seo, U-Hyeong ;
- Gwon, Hyeok-In ;
- Jeong, U-Seok
- 양지웅 (중앙대학교 전기전자공학과) ;
- 신재헌 (한국전자통신연구원 나노인터페이스 소자 연구실) ;
- 김경현 (한국전자통신연구원 나노인터페이스 소자 연구실) ;
- 박래만 (한국전자통신연구원 나노인터페이스 소자 연구실) ;
- 송창우 (한국전자통신연구원 나노인터페이스 소자 연구실) ;
- 홍찬화 (한국전자통신연구원 나노인터페이스 소자 연구실) ;
- 서우형 (한국전자통신연구원 나노인터페이스 소자 연구실) ;
- 권혁인 (중앙대학교 전기전자공학과) ;
- 정우석 (한국전자통신연구원 나노인터페이스 소자 연구실)
- Published : 2014.11.20
Abstract
본 연구에서는 GZO:Sn에서 Sn의 함유량에 따른 트랜지스터 특성 변화를 알아보았다. 그 결과 GZO:Sn=200W:9W 의 소자에서 가장 좋은 트랜지스터 특성을 얻을 수 있었다.
Keywords