Higly pure graphene flake fabrication method by using RF thermal plasma

RF thermal plasma system 을 이용한 초고순도 그래핀 플레이크 제조에 관한 연구

  • 오종식 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 오지수 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 염근영 (성균관대학교 신소재공학과)
  • Published : 2014.11.20

Abstract

그래핀은 높은 열전도도, 이동도, 물리적 강도, 화학적 안정성을 갖는 물질로써 가장 활발하게 연구가 진행되고 있는 소재이다. 하지만, 높은 품질의 그래핀을 생산하기 위한 Chemical Vapor Deposition(CVD) 그래핀 제조 방법은 높은 공정단가와 낮은 수율 문제로 적용에 어려움을 겪고 있다. 본 연구에서는 초고순도 그래핀 플레이크를 RF thermal plasma를 이용하여 제조함으로써 이러한 문제점을 해결하고자 한다.

Keywords