Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

그래핀 표면처리를 통한 high-k dielectrics 증착

  • 김기석 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 김경남 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 염근영 (성균관대학교 신소재공학부)
  • Published : 2014.11.20
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Abstract

CVD 로 성장된 그래핀 표면위에 transfer 와 lithography 공정에서 잔류하게 되는 PMMA residue 는 mobility 의 감소와 high-k dielectrics 의 증착을 방해하는 결정적인 요인이다. 우리는 최적화 되어진 Ar ion beam 을 통해 PMMA residue 를 damage 없이 효과적으로 제거하였고, 손쉽게 high-k dielectrics 를 uniform 하게 증착할 수 있었다.

Keywords