Proceedings of the KIPE Conference (전력전자학회:학술대회논문집)
- 2014.07a
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- Pages.95-96
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- 2014
Development of 8kW Variable Frequency RF Generator for 450mm CVD & 300mm F-CVD process
450mm 반도체 CVD 장비 및 300mm F-CVD 공정용 8kW급 주파수 가변형 RF Generator 개발
- Kim, Dae-Wook (New Power Plasma Co. LTD) ;
- Yang, Dae-Ki (New Power Plasma Co. LTD) ;
- An, Young-Oh (New Power Plasma Co. LTD) ;
-
Lim, Eun-Suk
(New Power Plasma Co. LTD)
;
- Choi, Dae-Kyu (New Power Plasma Co. LTD) ;
-
Choi, Sang-Don
(New Power Plasma Co. LTD)
- 김대욱 ((주)뉴파워프라즈마) ;
- 양대기 ((주)뉴파워프라즈마) ;
- 안영오 ((주)뉴파워프라즈마) ;
-
임은석
((주)뉴파워프라즈마)
;
- 최대규 ((주)뉴파워프라즈마) ;
-
최상돈
((주)뉴파워프라즈마)
- Published : 2014.07.01
Abstract
450mm 반도체 CVD 장비 개발 및 300mm F-CVD (Flowable CVD) 공정 개발에 있어서 공정 마진 확보 및 막질 품질 개선을 위해 주파수 가변형 RF Generator가 필수적으로 요구되고 있다. 20nm이하 STI (Shallow Trench Isolation), PMD (Pre-metal Dielectric) & IMD (Inter-Metal Dielectric) 미세공정 gap fill에 많은 문제점이 도출되고 있으며, 이유로는 Generator 고정 주파수에서 Matching Time delay 또는 Shooting에 의한 산포의 한계로 파악되었으며, 주파수 가변에 의한 고속 Tune 기능이 요구되어진다. 따라서 400kHz 주파수 가변형 RF-Generator 개발을 진행하였으며 본 논문을 통해 개발되어진 장비의 성능과 시험 평가한 결과를 소개하고자 한다.
Keywords