Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

SiO2 Thin Film Deposition using HMDSO/O2 PECVD

HMDSO/O2 PECVD를 이용한 SiO2 박막 증착 연구

  • 이승훈 (재료연구소 플라즈마코팅연구실) ;
  • 강용진 (재료연구소 플라즈마코팅연구실) ;
  • 김종국 (재료연구소 플라즈마코팅연구실) ;
  • 김도근 (재료연구소 플라즈마코팅연구실)
  • Published : 2013.05.30
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Abstract

$SiO_2$ 박막은 절연막 및 보호막 소재로 다양하게 사용되고 있다. 본 연구에서는 $HMDSO/O_2$ PECVD를 이용하여 $SiO_2$ Roll-to-Roll 증착 공정을 연구하였다. 약 300 mm급 선형 플라즈마 소스를 이용하여, PET 기판 상에 $SiO_2$ 박막을 연속 증착하였으며, $HMDSO/O_2$ 분압에 따른 증착 박막의 특성을 FT-IR, XPS, AFM을 통해 확인하였다.

Keywords