디스플레이 공정용 ICP 장비에서 안테나 구조 변화에 따른 플라즈마 변수 비교

Effects of antenna configurations in an inductively coupled plasma for display device process

  • 이영준 (한국항공대학교 항공전자공학과) ;
  • 오선근 (한국항공대학교 항공전자공학과) ;
  • 최희환 (한국항공대학교 항공전자 및 정보통신공학부)
  • 발행 : 2013.05.30

초록

디스플레이용 ICP 장비에서 Ar 플라즈마를 사용하여 플라즈마 시뮬레이션을 진행하였다. 안테나 코일의 회전수에 따른 플라즈마 변수들을 비교하였다. 1-turn과 4-turn의 플라즈마 밀도, 온도, 전위차의 공간분포들을 비교한 결과 4-turn이 균일도 측면에서 유리함을 확인 할 수 있었다.

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