유도 결합 플라즈마를 이용한 스퍼터-승화 증착 시스템의 공정 분석

Process Analysis sublimation deposition apparatus - sputtering using inductively coupled plasma

  • 유영군 (군산대학교 신소재공학과, 플라즈마 소재응용 센터) ;
  • 최지성 (군산대학교 신소재공학과, 플라즈마 소재응용 센터) ;
  • 주정훈 (군산대학교 신소재공학과, 플라즈마 소재응용 센터)
  • 발행 : 2013.05.30

초록

종래의 흑연 위주 연료전지 분리판 개발되어 최근 고분자 전해질 막 연료전지가 높은 전력, 낮은 배기 가스 배출, 낮은 작동 온도로 자동차 산업에서 상당한 주목을 받고 있다. 요구사항은 높은 전기 전도도, 높은 내식성, 낮은 가스 투과성, 낮은 무게, 쉬운 가공, 낮은 제조비용이다. Thin film Cr 장비로 저항가열 furnace, sputter 등이 사용된다. 연료전지 분리판의 고전도도, 내부식성 보호막의 고속 증착을 위한 새로운 증착원으로 스퍼터 - 승화형 소스의 가능성을 유도 결합 플라즈마에 금속 봉을 직류 바이어스 함으로써 시도하였다. 유도 결합 플라즈마를 이용하여 승화증착 시스템을 사용하여 OES(SQ-2000)와 QMS (CPM-300)를 사용하여 $N_2$ flow에 따른 유도 결합 플라즈마를 이용한 스퍼터-승화 증착 시스템을 사용하여도 균일한 공정을 하는 것을 확인 하였다.

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