Effect of thermal shock test on Cu pumping and surface roughness

열충격 시험에 의한 TSV의 Cu 돌출 및 표면 거칠기 변화

  • 노명훈 (서울시립대학교 신소재공학과) ;
  • 이준형 (서울시립대학교 신소재공학과) ;
  • 정재필 (서울시립대학교 신소재공학과)
  • Published : 2013.05.30

Abstract

3차원 실장을 위한 TSV의 제조 공정 중에 발생할 수 있는 Cu의 돌출 거동에 대해 연구하였다. Cu의 돌출은 반도체를 제조할 때 고온(>$350^{\circ}C$) 공정인 BEOL (back end of line) 중에 발생하는 현상이다. Cu의 돌출은 Si과 Cu의 열팽창계수 차이에 의해 발생하는 현상으로 고온 공정 뿐만아니라 열충격 시험과 같은 열피로에 의해서 발생할 수 있다. 따라서 본 연구에서는 $-65^{\circ}C$에서 15분과 $150^{\circ}C$에서 15분을 1 사이클로 설정하여 0, 250, 500, 1000 사이클의 열충격 시험을 수행하였다. 열충격 시험 후 각 사이클에서의 Cu 돌출 거동과 Cu의 표면 거칠기 변화에 대해 연구하였다.

Keywords