Cohesive Zone Model 을 이용한 나노임프린트 리소그래피 공정에서의 이형과정 시뮬레이션

Demolding Simulation with a Cohesive Zone Model for Nanoimprint Lithography

  • 손기주 (서울대학교 기계항공공학부 멀티스케일 기계설계 전공) ;
  • 이우일 (서울대학교 기계항공공학부 멀티스케일 기계설계 전공)
  • 발행 : 2013.05.29