Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 2013.02a
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- Pages.256-256
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- 2013
MPP (Modulated Pulsed Power)와 Magnetron Sputtering을 이용한 박막의 특성 평가
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Min, Gwan-Sik
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Yun, Ju-Yeong
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Sin, Yong-Hyeon
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- Cha, Deok-Jun ;
- Yeo, Chang-Eop ;
- Park, Hwan-Yeol ;
- Heo, Yun-Seong ;
- Tae, Gi-Gwan ;
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Kim, Jin-Tae
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민관식
(한국표준과학연구원)
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윤주영
(한국표준과학연구원)
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신용현
(한국표준과학연구원)
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- 차덕준 (군산대학교 물리학과) ;
- 여창업 (군산대학교 물리학과) ;
- 박환열 (군산대학교 물리학과) ;
- 허윤성 ((주)이루자) ;
- 태기관 ((주)이루자) ;
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김진태
(한국표준과학연구원)
- Published : 2013.02.18
Abstract
기존에 사용되어 오던 DCMS (DC magnetron sputtering)과 HPPMS (high-power pulsed magnetron sputtering)에 비해 MPP를 이용한 magnetron sputtering은 높은 증착률을 가지고 있으며, 증착된 박막의 특성도 우수하다고 알려져 있다. 본 연구에서는 최대 출력 700 V, 12.5 A, 100 kHz)의 사양을 가지는 DC, pulse DC, modulated pulsed DC의 세 종류로 변환이 가능한 Power supply를 제작하여 Cr 박막을 증착하였다. 증착시 혼합기체 Ar/