마그네트론 스퍼터링에 의해 제조된 Cr1-xAlxN 박막의 Al 함량과 열처리에 따른 온도저항계수

Effect of Al content and heat treatment on the temperature coefficient of resistance of Cr1-xAlxN film deposited by magnetron-sputtering

  • 문선철 (한국기술교육대학교 에너지.신소재.화학공학과) ;
  • 김상호 (한국기술교육대학교 에너지.신소재.화학공학과)
  • 발행 : 2012.11.08

초록

magnetron-sputtering법을 사용하여 $Cr_{1-x}Al_xN$ 박막을 증착함에 있어 Al 함량의 변화를 주었다. 그 후 열처리를 통하여 thermal inkjet 방식 print head의 heater resistor 소재로서의 특성 향상을 도모하였다. Al의 함량이 증가할수록 결정구조는 NaCl에서 wurtzite HCP 구조로 변화하였으며 전기적 특성 또한 다르게 나타났다. 비열처리 시 Al 함량이 클수록 결정성은 떨어진다는 것을 확인하였고, 열처리 시 Al 함량이 적을 수 록 더 안정한 온도 저항 계수를 나타내는 것을 확인하였다.

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