Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2012.05a
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- Pages.341-342
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- 2012
Hydrophobic characteristic of SiOxCyHz film by controlling the plasma process for HMDS precursor with hydrogen gas
HMDS와 수소를 이용한 플라즈마 공정 제어를 통한 소수성을 가지는 SiOxCyHz 박막합성
Abstract
일반적으로 낮은 표면에너지는 표면조도 및 표면 화학구조에 의하여 제어된다. 이 실험에서는
Keywords