한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

플라즈마 처리에 따른 CVD 그래핀의 전하 농도 및 이동도 변화에 관한 연구

Carrier density and mobility modification of CVD graphene by plasma treatments

  • 최민섭 (성균나노과학기술학과) ;
  • 문인용 (성균관대학교 나노소재기반휴먼인터페이스융합연구센터) ;
  • 임영대 (성균나노과학기술학과) ;
  • 아승환 (성균나노과학기술학과) ;
  • 유원종 (성균나노과학기술학과)
  • 발행 : 2012.05.31
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초록

화학기상증착법을 통해 대면적 합성이 가능해진 그래핀의 개발로 인해 그래핀에 관한 연구가 활발히 진행되었다. 특히, 플라즈마 처리에 관한 연구를 통해 그래핀의 도핑이 가능하다는 것이 밝혀졌고 이는 곧 그래핀 내의 전하 농도를 변화시킬 것으로 예상된다. 따라서 본 연구에서는 Van der Pauw 방법을 통해 플라즈마 처리에 따른 그래핀 내의 전하 농도와 면저항을 측정하고 이를 통해 이동도를 계산하는 실험을 진행하였다.

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