Studies on the Micro Structure of Unbalanced Magnetron Sputtered Zn-Mg Thin Films

비대칭 마그네트론 스퍼터링으로 합성된 Zn-Mg 박막의 미세조직에 관한 연구

  • 라정현 (표면기술응용연구센터, 한국항공대학교 항공재료공학과) ;
  • 김범석 (표면기술응용연구센터, 한국항공대학교 항공재료공학과) ;
  • 이상율 (표면기술응용연구센터, 한국항공대학교 항공재료공학과) ;
  • 홍석준 (POSCOTE-D 추진반, (주) 포스코 기술연구원) ;
  • 김태엽 (POSCOTE-D 추진반, (주) 포스코 기술연구원)
  • Published : 2012.05.31

Abstract

비대칭 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 다양한 공정조건에서 조성을 변화시키며 Zn-Mg 합금 박막을 합성하였으며, 합성된 박막의 기초특성 분석을 실시하였다. 기존의 마그네트론 스퍼터링 공정으로 낮은 Mg 조성의 Zn-Mg 박막을 합성 할 경우 porous한 박막이 합성 되었다. 본 연구에서는 모든 조성의 Zn-Mg 박막의 치밀화를 위하여 차별화된 박막 합성 기술을 연구하였다. 본 연구에서 개발된 박막 합성 기술을 적용하여 Zn-Mg 박막을 합성 한 결과 3wt.% Mg 타겟을 이용하여도 치밀한 조직의 박막을 합성할 수 있었다. Zn-Mg 박막의 경도는 박막의 Mg 조성이 높을수록 증가하여 최고 403.1Hv를 나타냈다.

Keywords