Projection ablation of an IC substrate material using a nanosecond UV laser

나노초 UV 레이저 응용 반도체 기판 소재의 projection ablation 가공

  • 손현기 (한국기계연구원 광응용기계연구실) ;
  • 최한섭 ((주)큐엠씨 연구소) ;
  • 박종식 ((주)리스광시스템 응용광학설계팀)
  • Published : 2012.10.24