Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 2011.07a
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- Pages.1445-1446
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- 2011
A study on the property of magnetron sputtering deposition by control of a magnetic field distribution
자기장 분포 제어에 의한 마그네트론 스퍼터링 증착 특성 연구
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Kim, Hyun-Soo
(Department of Electronics Information. Soonchunhyang University) ;
- Kim, Il-Young (Department of Electronics Information. Soonchunhyang University) ;
- Min, Sang-Hong (Department of Electronics Information. Soonchunhyang University) ;
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Kim, Chang-Kyo
(Department of Electronics Information. Soonchunhyang University) ;
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Byun, Sang-Doo
(CDS Co. Ltd.)
- Published : 2011.07.20
Abstract
ITO 박막의 전기 광학적 특성을 향상시키기 위해 열처리 공정은 필수적이다. 하지만 향후 발전시켜나갈 플렉서블 디스플레이(flexible display)에서는 ITO를 저온에서 증착해야 할 필요성이 대두되었고, 이에 따라 기판의 온도를 상온으로 유지하면서 고품질의 ITO 박막을 제조하고자 하는 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 상온에서 유리 기판 위에 RF 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 장치의 자기장 분포를 제어하여 ITO 박막을 증착하였다. 제작된 시편의 두께와 투과도 및 이동도를 측정 비교하였다.
Keywords