한국진공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)
- 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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- Pages.290-290
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- 2011
유도결합플라즈마 식각 장비에서 안테나와 웨이퍼간 거리 차에 따른 플라즈마 변화 연구
- 조태훈 (광운대학교 전자물리학과) ;
- 윤명수 (광운대학교 전자물리학과) ;
- 손찬희 (광운대학교 전자물리학과) ;
- 강정욱 (광운대학교 전자물리학과) ;
- 김동진 ;
- 최장훈 ;
- 남창길 ;
- 전부일 (광운대학교 전자물리학과) ;
- 조광섭 (광운대학교 전자물리학과) ;
- 권기청 (광운대학교 전자물리학과)
- Jo, Tae-Hun ;
- Yun, Myeong-Su ;
- Son, Chan-Hui ;
- Gang, Jeong-Uk ;
- Kim, Dong-Jin (JUSUNG ENGINEERING) ;
- Choe, Jang-Hun (JUSUNG ENGINEERING) ;
- Nam, Chang-Gil (JUSUNG ENGINEERING) ;
- Jeon, Bu-Il ;
- Jo, Gwang-Seop ;
- Gwon, Gi-Cheong
- 발행 : 2011.02.09
초록
유도결합플라즈마 장비의 공정에서 안테나의 역할은 매우 중요하다. 유도결합플라즈마의 식각 공정에서도 충분한 식각과 균등한 식각 결과를 얻기 위해 안테나의 역할은 중요한 요인 중 하나이다. 안테나와 공정 웨이퍼간의 거리에 따라 발생하는 플라즈마 밀도나 전자 온도 등이 변화하고 그에 따른 식각정도나 균등성도 달라진다. 본 연구에서는 플라즈마 특성 변화를 관찰하기 위해 기존 유도결합플라즈마 식각 장비의 안테나와 웨이퍼간 거리와 내부 안테나를 웨이퍼와 가깝게 하였을 때의 플라즈마 밀도, 안테나의 전류와 식각률 등을 측정하였다.