한국신재생에너지학회:학술대회논문집
- 한국신재생에너지학회 2011년도 추계학술대회 초록집
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- Pages.52.2-52.2
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- 2011
RF스퍼터를 이용한 I-ZnO박막의 electron-beam처리에 따른 특성 연구
Study on the electron-beam treatment of i-ZnO thin films by RF magnetron sputtering
- Kim, Dongjin (KITECH) ;
- Kim, ChaeWoong (KITECH) ;
- Jung, Seungcul (KITECH) ;
- Kwon, Hyuk (KITECH) ;
- Park, Insun (KITECH) ;
- Kim, JinHyeok ;
- Jeong, ChaeHwan (KITECH)
- 발행 : 2011.11.16
초록
본 연구의 목적은 CIGS 태양전지의 두 가지 TCO층 중 AZO를 제외한 intrinsic ZnO의 전자빔 처리 영향에 대한 특성 분석을 하고자 함이다. 또한 추후 CIGS 태양전지를 제조하여 적용 시 전자빔 처리 전후의 특성이 어떻게 변하는지를 알아보기 위한 사전 실험이다. Intrinsic ZnO는 RF magnetron sputter 를 이용하여 약 100nm의 두께로 증착 하였다. 이때 공정 압력을 변수로 RF power는 80W로 설정 하였으며 Ar 분압은 10mtorr, 5mtorr, 1mtorr로 각각 달리 하며 증착 하였다. 이후 전자빔 처리를 위해 각각의 시편에 Argon flow 7sccm 상태에서 DC power 3kW, RF power 300W의 세기로 전자빔 처리를 실시 하였다. 전자빔 처리에 따른 전기적, 구조적 특성을 분석하기위해 Hall measurement와 SEM, XRD, UV-vis spectroscopy을 사용하였다. 먼저 Hall measurement 측정을 통한 전기적 분석 결과 비저항이 무한대에서 약