Proceedings of the KIPE Conference (전력전자학회:학술대회논문집)
- 2010.07a
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- Pages.516-517
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- 2010
Development of 20kW Plasma Sputtering Impulse Power Supply for Maximum Coating Ability
최대 증착을 위한 20kW 플라즈마 스퍼터용 임펄스 전원 장치
- Choi, Byung-Jun (Incheon University1) ;
- Ban, Jung-Hyun (Incheon University1) ;
- Kim, Dong-Sung (EN Technology) ;
- Han, Hee-Min (EN Technology) ;
- Kim, Joohn-Sheok (Incheon University1)
- Published : 2010.07.06
Abstract
최근에 들어 반도체 및 디스플레이 분야를 포함하여 태양전지와 같은 신재생 에너지 분야에서 고품질, 고기능성 박막이 많이 사용되고 있으며, 이에 따라 플라즈마 제어기술 및 코팅 공정기술 개발에 대한 요구가 증가하고 있다. 산업기술이 고도화됨에 따라 다양한 계열의 박막이 필요하게 되었고 고밀도의 플라즈마를 공급하고 안정된 공정을 진행하기 위해 순시적인 플라즈마 제어가 가능한 임펄스 전원장치에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 기존의 임펄스 전원장치에서는 플라즈마 발생에 필요한 고전압 발생만 관점을 두고 있으나 플라즈마의 발생뿐이 아니라 증착율이 높은 상태로 유지되어야 실제 공정의 효율이 증가한다. 본 연구에서는 증착 효율을 극대화하기 위하여 별도의 저압회로를 부가한 복합형 임펄스 전원장치를 제안한다.
Keywords