Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 2010.02a
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- Pages.459-459
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- 2010
최적화된 대면적 스퍼터링 캐소드를 이용한 Si/SiO2 박막 제조 및 특성 평가
- Kim, Yeong-Tae ;
- Park, Seung-Il ;
- Kim, Tae-Hyeong ;
- No, Tae-Uk ;
- Kim, Man-Tae ;
- Park, Hyeong-Sun ;
- Son, Seon-Yeong ;
- Yun, Seung-Jin ;
- Jeon, Mu-Hyeon
- 김영태 (구미전자정보기술원) ;
- 박승일 ((주)석원) ;
- 김태형 (구미전자정보기술원) ;
- 노태욱 (구미전자정보기술원) ;
- 김만태 (구미전자정보기술원) ;
- 박형순 (구미전자정보기술원) ;
- 손선영 (구미전자정보기술원) ;
- 윤승진 ((주)석원) ;
- 전무현 ((주)석원)
- Published : 2010.02.17
Abstract
대면적 마그네트론 스퍼터링 캐소드를 이용하여 고효율 스퍼터링을 실현하기 위해서는 진공 상태에서 하전입자의 손실을 최소화하여 플라즈마 내에 많은 입자를 구속하는 기술이 요구된다. 본 연구에서는 고효율 특성을 갖는 대면적 캐소드(
Keywords