Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference (한국정보통신학회:학술대회논문집)
- 2010.05a
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- Pages.795-797
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- 2010
A Study on Wet Etching of Metal Thin Film Deposited by DC Magnetron Sputtering System
DC 마그네트론 스퍼터링 증착 금속 박막의 습식식각에 대한 연구
- Hur, Chang-Wu (Dept. of Electronic Engineering. Mokwon Univ.)
- 허창우 (목원대학교 전자공학과)
- Published : 2010.05.27
Abstract
습식 식각은 식각용액으로서 화학용액을 사용하는 공정으로 반응물이 기판표면에서 화학반응을 일으켜 표면을 식각하는 과정이며, 표면결합의 제거를 위한 식각연마와 폴리싱을 위한 식각, 그리고 구조적 형상 패턴등이 있다. 여기서 화학용액은 산화제 또는 환원제 역할을 하는 혼합용액으로 구성된다. 습식 식각 시 수
Keywords