Influence of negative bias voltage on the microstructure of CrN films deposited by arc ion plating

Negative bias voltage effect에 따른 CrN 박막의 미세구조에 대한 연구

  • Published : 2009.10.14

Abstract

AIP(arc ion plating)방법으로 CrN 코팅막을 합성하였다. 고분해능 SEM과 AFM 분석들로부터 negative bias voltage에 따른 미세구조의 영향을 나타내었다. negative bias voltage의 증가에 따라 columnar microstructure가 amorphous microstructure로 변화하였다. bias voltage effect에 의해 CrN 코팅막내 입자의 크기가 미세해지고 나노 복합체를 잘 형성하였다.

Keywords