Stability of gate insulator using $NH_3$ plasma

  • 이원백 (정보통신소자연구실, 성균관대학교 전자전기및컴퓨터공학과) ;
  • 경도현 (정보통신소자연구실, 성균관대학교 전자전기및컴퓨터공학과) ;
  • ;
  • 이준신 (정보통신소자연구실, 성균관대학교 전자전기및컴퓨터공학과)
  • Lee, Won-Baek ;
  • Gyeong, Do-Hyeon ;
  • Duy, Nguyen Van ;
  • Lee, Jun-Sin
  • 발행 : 2009.02.11