Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 2009.08a
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- Pages.410-410
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- 2009
Process window for infinitely high etch selectivity of TEOS oxide to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled $C_4F_8/CH_2F_2/O_2$ /Ar plasmas
- Gwon, Bong-Su ;
- Kim, Jin-Seong ;
- An, Jeong-Ho ;
- Park, Yeong-Rok ;
- Jeong, Chang-Ryong ;
- Heo, Uk ;
- Park, Ji-Su ;
- Lee, Nae-Eung ;
- Son, Jong-Won
- 권봉수 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 김진성 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 안정호 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 박영록 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 정창룡 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 허욱 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 박지수 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 이내응 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 손종원 (주성엔지니어링(주))
- Published : 2009.08.19
Abstract
Keywords