PECVD 시스템을 이용한 RF 바이어스에 의한 실리콘 옥사이드 배리어 박막의 특성에 대한 고찰

  • 진수봉 (플라즈마 응용 표면기술 연구센터, 성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 최윤석 (플라즈마 응용 표면기술 연구센터, 성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 최인식 (플라즈마 응용 표면기술 연구센터, 성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 한전건 (플라즈마 응용 표면기술 연구센터, 성균관대학교 신소재공학과)
  • Published : 2009.08.19