TDMAS를 이용한 저온 산화막 PECVD 반응기에서의 노즐 위치 및 반응기 높이에 따른 반응 속도 특성분석 및 유동해석

  • 김대경 (성균관대학교, 화학공학부) ;
  • 이재산 (한국국제일렉트로닉스, 연구소) ;
  • 이자혁 (한국국제일렉트로닉스, 연구소) ;
  • 한재현 (한국국제일렉트로닉스, 연구소) ;
  • 채희엽 (성균관대학교, 화학공학부)
  • Published : 2009.08.19