ICP-RIE를 이용한 실리콘 식각에 미치는 플루오르계 반응 가스의 영향

  • 김상헌 (한국과학기술연구원, 나노소자연구센터) ;
  • 정성목 (한국과학기술연구원, 나노소자연구센터) ;
  • 김영환 (한국과학기술연구원, 나노소자연구센터)
  • 발행 : 2009.08.19