비휘발성 메모리 적용을 위한 고유전율 $HfO_2$ 물질의 두께에 따른 전하 트랩핑 특성

  • 유희욱 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 김민수 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 박군호 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 이영희 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 정홍배 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 조원주 (광운대학교 전자재료공학과)
  • Published : 2009.08.19