Proceedings of the Optical Society of Korea Conference (한국광학회:학술대회논문집)

2009.10a
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Pages.282-283
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2009

Optical Society of Korea (한국광학회)

권호 표지

Absorber Materials and Designs for Extreme Ultraviolet Lithography Photomask

극 자외선 리소그래피 마스크의 흡수체 물질과 설계

남현정 (인하대학교 물리학과) ;
이장훈 (인하대학교 물리학과) ;
강희영 (인하대학교 물리학과) ;
황보창권 (인하대학교 물리학과)

Published : 2009.10.20

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Abstract

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