Effect of $O_2$ Plasma Treatment on the Properties of CdS films Fabricated on the Polymer Substrate

$O_2$ 플라즈마 전처리조건에 따른 폴리머 기판에 증착된 CdS 박막의 특성변화

  • Kim, Jeong-Ho (Department of Electronic Engineering, Chungju National University) ;
  • Park, Seung-Beom (Department of Electronic Engineering, Chungju National University) ;
  • Jung, Tea-Hwan (Department of Electronic Engineering, Chungju National University) ;
  • Kim, Byeong-Guk (Department of Electronic Engineering, Chungju National University) ;
  • Song, Woo-Chang (Chungju National University Next Generation BINT Technical Institute) ;
  • Park, Jea-Hwan (Department of Electronic Engineering, Chungju National University) ;
  • Lim, Dong-Gun (Department of Electronic Engineering, Chungju National University)
  • 김정호 (충주대학교 전자공학과) ;
  • 박승범 (충주대학교 전자공학과) ;
  • 정태환 (충주대학교 전자공학과) ;
  • 김병국 (충주대학교 전자공학과) ;
  • 송우창 (충주대학교 차세대 BINT 기술 연구소) ;
  • 박재환 (충주대학교 전자공학과) ;
  • 임동건 (충주대학교 전자공학과)
  • Published : 2009.06.18

Abstract

CdS 박막은 에너지 밴드갭이 상온에서 2.42 eV인 직접 천이헝 반도체로써 태양전지 및 광전도 셀과 광센서 등에 널리 사용되고 있다. 본 논문에서는 유연성을 가지고 있는 PC, PET, PEN등 폴리머 기판을 $O_2$ 플라즈마를 사용하고 RF Power 100W, 공정시간 60~1200s의 조건에서 전처리하고, 이 기판을 CBD법을 이용하여 CdS 박막을 증착시켰다. 폴리머 기판의 결정립크기는 180s의 처리시간 부터 증가를 보였으며, 전기적 특성은 60s 와 180s에서 이동도와 비저항이 반비례하는 경향성을 나타내었고 광투과율은 처리시간에 따른 뚜렷한 변화를 보이지 않았다.

Keywords