Remote PECVD를 이용한 ZnO 박막의 공정변수와 구조연구

Study on process parameters and structural properties of ZnO film deposited by remote PECVD

  • 발행 : 2009.06.18

초록

박막태양전지의 투명전도막으로 응용이 기대되는 ZnO 박막을 원격 유도결합플라즈마를 이용하여 고속으로 증착활 수 있는 공정기술을 개발하기 위하여 기판온도, 가스조성 플라즈마 파워와 같은 공정변수에 대하여 실험하였다. 실험결과 증착속도는 소스유량을 고정한 경우, 온도가 증가할수록 감소하며, $H_2O$ 유랑과 압력이 증가할수록 증가하다가 포화되는 경향을 나타내었다. 기판온도 $150\;^{\circ}C$와 플라즈마 출력 200 W의 조건에서 ZnO의 증착속도는 500 nm/min 이상의 높은 증착속도를 나타내었으며, 전기적 광학적 특성 또한 우수한 것으로 나타났다. 또한 ZnO 박막의 물성은 구조에 민감하게 의존하였으며, 이러한 구조는 공정조건에 의하여 제어가능 함을 알 수 있었다. 자세한 연구결과는 학회에서 발표할 예정이다.

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