Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2009.05a
- /
- Pages.264-265
- /
- 2009
Study of the Etched ZnO Thin Film Surface in the $BCl_{3}/Ar/Cl_{2}$ Plasma
$Cl_{2}/BCl_{3}$ /Ar 플라즈마에 의해 식각된 ZnO 박막 표면의 연구
-
U, Jong-Chang
;
- Ha, Tae-Gyeong ;
- Wi, Jae-Hyeong ;
-
Ju, Yeong-Hui
;
- Eom, Du-Seung ;
-
Kim, Dong-Pyo
;
-
Kim, Chang-Il
-
우종창
(중앙대학교 전자전기공학부) ;
- 하태경 (중앙대학교 전자전기공학부) ;
- 위재형 (중앙대학교 재생에너지공학과) ;
-
주영희
(중앙대학교 전자전기공학부) ;
- 엄두승 (중앙대학교 전자전기공학부) ;
-
김동표
(중앙대학교 전자전기공학부) ;
-
김창일
(중앙대학교 전자전기공학부)
- Published : 2009.05.27
Abstract
본 연구에서 유도결합 플라즈마 식각 장치외
Keywords